Taşındım! Yeni adresim: http://nanoturkiye.net

15 Nisan 2008 Salı

Fotomaske Temizlemesi İçin Yeni Yöntem


Applied Materials, Inc. bugün Applied Tetra™ Reticle Clean adlı ürününü çıkardı. Bu ürün 32 nm ve üstü foromaskelere zarar vermeden, %99 oranda temizlik sağlıyor. Sektörde bir ilk.

“Geleneksel fotomaske temizleme sistemleri, maskelere zarar vermeden temizleme yapamıyordu" diyor Ajay Kumar, "Applied Materials’ Mask Etch and Cleans" bölümü genel müdürü. “Biz bu zorluğu Tetra Reticle Clean sistemiyle çözdük, böylece hem maskeler zarar görmeden temizleniyor , hem de müşterilerin isteği karşılanmış oluyor.

The Tetra Reticle Clean sistemi 45 nm'de denendi ve dikkate değer bir performans sergiledi. Temizleme teknolojisinde yapılan gelişmeler sayesinde bu seviyeye ulaşıldı. Sistemin kendine has esnek tasarımı var, sülfür içermiyor, amonyak tabanlı temizleme parçaları ile maksimum seviyede fotodirenen malzeme ve parçacık temizlemesi sağlanıyor.

Fotomaskeler hakkında bilgi öğrenmek istiyorsanız tıklayın.

Kaynak: 1 , 2

 

Yukarı