Intel'den Yeni Litografik Teknik: Pikselleme Litografya

Yeni metod, Intel'in geleneksel AR-GE gününde gösterildi. Bu yöntem Moore kanunun, önümüzdeki on yılda geçerliliğini koruyacağını gösteriyor.

Litografik teknikler 60'lı yıllardan beri işlemci yapımında kullanılıyor. Litografyada sorun şu: oluşturacağınız desen küçüldükçe, maskenin direnen malzeme üzerinde oluşturduğu şekilde bozulmalar oluyor. Misal, dikdörtgen oluşturmak isterken, oval bir şekil oluşuyor. Bunun için günümüzde orijinalden farklı maske yapılıp, düzgün şekiller oluşması sağlanıyordu. Ama artık bu yöntem de, yani optik yuvarlama tekniği de yetersiz kalıyor.

Yeni yöntem ile desen piksel piksel oluşturuluyor. Maske aslında cam üzerinde yanyana açılmış küçük küçük delikler. Maske tamamen saydam, desen anca ışık tuttuğunuzda gözüküyor.

Intel bu yöntemle 65 nm'lik bir örneği üretti, sırada 45 nm'lik örneği yapmak var. Şu videoda ise yeni maskenin görüntülerine ulaşabilirsiniz.
















Soldaki resim oluşturulan desen, sağdaki resim ise piksellenmiş litografyada kullanılan maske. Kırmızı noktalar camdaki delikleri temsil ediyor.

Kaynak: 1 , 2