Taşındım! Yeni adresim: http://nanoturkiye.net

4 Temmuz 2008 Cuma

Boşta Gezen AKM Uçları ile Nanolitografya


Tümleşik devre teknolojisinin en önemli problemlerinden biri de çizgi kalınlığının [kağıt üzerinde harfleri oluşturan çizgilerin kalınlığı olarak düşünülebilir] düşürülmesidir. Bilgisayar çiplerinin performansı ve hızı, çizgi kalınlığının büyüklüğü ile yakından alakalıdır. 1960'ların başında çizgi kalınlığı büyüklüğü 5 µm iken, optik litografyadaki gelişmeler ile bu büyüklük kullanılan ışının sınırlarına kadar dayandı. Fotolitografyada günümüzde dalga boyu 248 ilâ 193 nm arası değişen derin morötesi ışınlar (DUV) kullanılıyor. Teorik olarak bu ışınlarla 50 nm'lik desenler yapma imkanınız olsa da, en küçük olan 157 nm dalga boylu ışıkla bile sürekli gelişen nanoüretim yöntemlerine yetişmeniz mümkün değil.

İsrail'deki araştırmacılar lazer aşındırması ile değişik yüzeyler üzerinde çok küçük yapılar oluşturma üzerinde çalışıyorlar. Yakın zamanda araştırmacılar Boşta Gezen Uç Nanolitografya (BGUN)(FTN - Floating Tip Nanolithography) yöntemini tanıttılar. Şimdi kısaca yöntemi tanıtalım.

AKM'lerin sivri uçları femtosaniye lazerle birkaç yüz dereceye kadar ısıtıldıktan sonra, yumuşak bir polimerin üzerine [polimer, sivri uç ile fizikse temas halinde değil] ∼ 20 nm kalınlığında 2-4 nm derinlikte çizgiler yapılabiliyor.

"Yeni metodumuz ile sürekli olan uç-yüzey etkileşimleri ile, temassız metal işlemesi yapılabilir" diyor Dr. Alexander Milner. "Metodumuz tüm ticari AKM'lerde yeni bir manivelaya ihtiyaç duyulmadan Apertureless Near-Field Scanning Optical Microscope (ANSOM) modunda uygulanabilir. Metodu uygulayabilmemiz için tarayacı ucu daha önceden belirlenmiş yükseklikte [1-2 nm] tutan yeni bir AKM modu oluşturmamız gerekti."



Araştırmacılar BGUN ve fiziksel kazıma yöntemi ile yapılan iki deseni karşılaştırmışlar. BGUN ile malzeme gerçekten kazınmış iken, diğer yöntemde sadece dışarı doğru çıkartılmış. [resim]














Makaleye şu adresten ulaşılabilir.

Kaynak: 1

 

Yukarı