Taşındım! Yeni adresim: http://nanoturkiye.net

30 Mart 2008 Pazar

NANO 101 - Elektron Demet Litografyası - 3

İzdüşümlü Elektron Demet Litografyası
Bu yöntem gerçek desenleme yapmak için kullanılır. Bu sistemde deseni aktarmak için bir maske kullanılır. Mantık diğer litografik teknikleri ile aynı olduğu için gerisini yazmayacağım. Maske ile desenleme yapılır, daha sonra altlık sıvı içerisine konup aşındırma yapılır.

Bu yöntemin sorunu ise elektronları direk gönderdiğiniz için, maskede enerji birikmesi ve bunun sonucunda da maskenin ısınması. Bu sorunu çözmek için ise 2 çeşit maske yapılıyor.

Saçıcı maskeler: ince bir Si zarı ile kaplı bir maske. Üzerine düşen demetlerin çok az bir enerjisini içine alıyor, diğerlerini etrafa saçıyor.

Sürekli maskeler ise 2 katmandan oluşuyor: üstte düşük atom numarasına sahip ince bir zar (mesela 100 nm SiN), altta ise yüksek atom numarasına sahip zar (mesela 250 Angström Volfram) Desen alttaki katmanda oluşur ve bu katman elektron demetlerini saçabilir.

Desen 4 kere küçültülerek direnen malzemeye aktarılıyor.

UNAM'da Elektron Demeti Litografyası odası:

 

Yukarı