NANO 101 - Foton Temelli Nanolitografik Teknikler - 1

Değme ve Yakınlaşma ile Optik Desenleme

Değme ile desenlemede, fotomaske direnen malzeme ile temas halindedir. Maske ile direnen malzeme arasında boşluk yoktur.

Bu yöntemin avantajları:
1 - Basit bir süreçtir.
2 - Yüksek çözünürlükte desen elde etmek için uygundur.

Bu metodun problemi ise maskenin bir süre bozulmasıdır.

Üretim bittiği zaman, maske direnen malzemenin üzerinden alınır. İşte bu çıkarma işlemi sırasında maskenin boşlukları direnen malzeme ile dolabilir. Bu durumda ise ilerideki maskeleme işleminde farklı bir desen oluşur. Ayrıca maskenin yüzeyine çeşitli tozlar ve parçacıklar birikerek, maskenin tüm yüzeyinin direnen malzemeye değmesine engel olur bu da tabi ki yanlış desenlerin oluşmasına sebep olur. O yüzden değme yönteminde kullanılan maskeler işlem bitince temizlenmelidir.

Yakınlaşma ile desenlemede, maske ile direnen malzeme arasında küçük bir boşluk vardır. Boşluk, değme ile desenlemede ortaya çıkan hataların oluşumunu engeller. Aslında, değme ile desenleme zannedilen bir çok işlem gerçekte yakınlaşma ile desenlemedir. Çünkü bir yüzeyin diğer bir yüzey üzerine birebir oturması gerçekten çok zordur.

Bu yöntemin dezavantajı ise aradaki boşluğun ayarlanmasıdır.

Bahsi geçen iki yöntemin dezavantajı ise maske üzerindeki desen ile direnen malzeme üzerindeki görüntünün 1'e 1 olmasıdır. 1'e 1 görüntünün dezavantajlarını "NANO 101 - Maskeler" adlı yazımda anlatmıştım.