NANO 101 - Foton Temelli Nanolitografik Teknikler - 3

Aşırı Mor Ötesi Litografya
Bu litografya tipi, optik litografyanın 10-14 nm dalga boylarındaki ışınlarla yapılmasıdır. Bu litografya, vakuumda yapılmak zorundadır. Bu dalga boyunda ışın kullanılması sayesinde yüksek çözünürlükte desenler elde edilir.

Sistem şöyle işlemektedir:Fotomaskenin üzerine ışınlar gönderilir, fotomaskeden yansıyan ışınlar mercek sisteminden geçer, geçerken 4 kat küçülür ve silikon altlık üzerindeki direnen malzemede deseni oluştururlar.Fotomaske %70 yansıtıcı yüzeye sahip, birbirini takip eden Mo/Si çizgilerden (yaklaşık 80 adet) meydana gelir.

Bu yöntemin en önemli kısmı, hatasıza yakın fotomaske yapımıdır.

Yöntemin İngilizcesi: Extreme Ultraviolet Lithography

Resim biraz daha açıklayıcı bilgi verebilir.





















Intel 2011 yılından önce bu tekniğin üretimde kullanılamayacağını düşünüyor. (1) Intel o zaman 22 nm'lik işlemciler yapacak. Hatasız maske yapımı için çalışmalar devam ediyor.